在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上，臺積電已經(jīng)一騎絕塵了，其他人望不到尾燈了，今年量產(chǎn)了5nm，明年就輪到3nm了。

在昨天的說法會上，臺積電公布了先進(jìn)工藝的最新進(jìn)展，5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn)，良率很好，同時還在提升EUV工藝的效率及性能。

5nm工藝今年有華為麒麟9000及蘋果A14兩個客戶，后續(xù)還會增加，預(yù)計(jì)今年貢獻(xiàn)8%的收入，明年會增加的雙位數(shù)以上。

5nm之后還會有4nm工藝，不過4nm只是5nm工藝的改進(jìn)版，完全兼容，進(jìn)一步提升性能、能效及密度，2021年Q4季度投產(chǎn)，2022年規(guī)模量產(chǎn)。

在之后就是3nm節(jié)點(diǎn)了，這將是臺積電另外一個長期存在的高性能節(jié)點(diǎn)。

與5nm工藝相比，3nm的晶體管密度提升70%，性能提升15%或者功耗降低30%，同時繼續(xù)使用FinFET工藝，技術(shù)成熟度更高。

至于3nm的生產(chǎn)時間，臺積電表示會在2021年開始量產(chǎn)，并最終在2022年下半年實(shí)現(xiàn)規(guī)模量產(chǎn)。

從臺積電的表態(tài)來看，3nm節(jié)點(diǎn)的進(jìn)展很順利，量產(chǎn)時間要比之前的傳聞還要早一些。

生成海報

免責(zé)聲明：本網(wǎng)站內(nèi)容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網(wǎng)站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網(wǎng)站將盡力確保所提供信息的準(zhǔn)確性及可靠性，但不保證有關(guān)資料的準(zhǔn)確性及可靠性，讀者在使用前請進(jìn)一步核實(shí)，并對任何自主決定的行為負(fù)責(zé)。本網(wǎng)站對有關(guān)資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負(fù)任何法律責(zé)任。任何單位或個人認(rèn)為本網(wǎng)站中的網(wǎng)頁或鏈接內(nèi)容可能涉嫌侵犯其知識產(chǎn)權(quán)或存在不實(shí)內(nèi)容時，應(yīng)及時向本網(wǎng)站提出書面權(quán)利通知或不實(shí)情況說明，并提供身份證明、權(quán)屬證明及詳細(xì)侵權(quán)或不實(shí)情況證明。本網(wǎng)站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯(lián)系相關(guān)文章源頭核實(shí)，溝通刪除相關(guān)內(nèi)容或斷開相關(guān)鏈接。